Сверхчистая фтористоводородная кислота Superior Pure: примеси металлов менее 10ppt
Сверхчистая фтористоводородная кислота Superior Pure: примеси металлов менее 10ppt
Молекулярная формула:H₂O₂
CAS号:7722-84-1
Чистота: Фтористоводородная кислота промышленного класса: Концентрация обычно составляет 40% — 50%. Фтористоводородная кислота электронного класса: обычная концентрация составляет 49% Обычно, класс UPSS ≥ 99,9999% или 99% (в зависимости от применения)
Информация о продукте/Язык Корейский Параметры сверхчистой плавиковой кислоты
| параметр | у | минимум | максимум | |
| Обнаружение (КВ) | % | 48.8 | 49.2 | |
| Цвет | АПХА | 10 | ||
| Нитраты (NO3) | ppb | 15 | ||
| Хлорид (Cl) | ppb | 15 | ||
| Фосфат (PO4) | ppb | 15 | ||
| Сульфаты и сульфиты (SO3 и SO4) | ppb | 15 | ||
| Примеси самые крупные | у | минимум | максимум | |
| Алюминий (Al) | ppb | 0.05 | ||
| Сурьма (Sb) | ppb | 0.05 | ||
| Мышьяк (As) | ppb | 0.05 | ||
| Барий (Ба) | ppb | 0.05 | ||
| 铍 (Бэ) | ppb | 0.05 | ||
| Висмут (Висмут) | ppb | 0.05 | ||
| Бор (В) | ppb | 0.05 | ||
| Кадмий (Cd) | ppb | 0.05 | ||
| Кальций (Ca) | ppb | 0.05 | ||
| Хром (Cr) | ppb | 0.05 | ||
| Кобальт (Co) | ppb | 0.05 | ||
| Медь (Cu) | ppb | 0.05 | ||
| 镓 (Га) | ppb | 0.05 | ||
| Германий (Ge) | ppb | 0.05 | ||
| Золото (AU) | ppb | 0.05 | ||
| Железо (Fe) | ppb | 0.05 | ||
| 铟 (В) | ppb | 0.05 | ||
| Свинец (Pb) | ppb | 0.05 | ||
| 锂 (Ли) | ppb | 0.05 | ||
| Магний (Mg) | ppb | 0.05 | ||
| Марганец (Mn) | ppb | 0.05 | ||
| Молибден (Mo) | ppb | 0.05 | ||
| Никель (Ni) | ppb | 0.05 | ||
| 铌 (Nb) | ppb | 0.05 | ||
| Калий (К) | ppb | 0.05 | ||
| Серебро (Ag) | ppb | 0.05 | ||
| Натрий (Na) | ppb | 0.05 | ||
| Стронций (Sr) | ppb | 0.05 | ||
| 钽 (Та) | ppb | 0.05 | ||
| 铊 (Tl) | ppb | 0.05 | ||
| Олово (Sn) | ppb | 0.05 | ||
| Титан (Ti) | ppb | 0.05 | ||
| 钒 (V) | ppb | 0.05 | ||
| Цинк (Zn) | ppb | 0.05 | ||
| Цирконий (Zr) | ppb | 0.05 | ||
| Подсчет частиц | у | минимум | максимум | |
| ≧ 0,1 мкм | шт/мл | 300 | ||
| ≧ 0,2 мкм | шт/мл | 150 | ||
| ≧ 0,5 мкм | шт/мл | 25 | ||
Фтористоводородная кислота обычно делится на две категории: фтористоводородная кислота промышленного качества и фтористоводородная кислота электронного класса в зависимости от чистоты и использования, из которых фтористоводородная кислота электронного класса далее подразделяется на несколько сортов в зависимости от чистоты.
Техническая фтористоводородная кислота
- Чистота: содержание фтористого водорода ≥40%, железа ≤0,01%, серной кислоты ≤0,02%, мышьяка ≤2%.
- Использование: В основном используется в химической, стекольной, керамической и других отраслях промышленности, таких как травление стекла, обработка керамики, обработка металлических поверхностей и т. Д.
Фтористоводородная кислота электронного класса
Фтористоводородная кислота электронного качества делится на следующие пять уровней в зависимости от чистоты, а обычные данные корректируются в зависимости от концентрации:
| уровень | Стандарты SEMI | Содержание примесей металлов | Контроль размера частиц | Применимый диапазон ширины линии IC | Применимая интеграция с интеграцией ИС | Основные области применения: |
|---|---|---|---|---|---|---|
| ТЕМ | С1/С2 | ≤100 ppb | ≤1μм | >1,2 мкм | 1М、4М | Малые и средние интегральные схемы и обработка электронных компонентов |
| ВВЕРХ | С7 | ≤10 ppb | ≤0,5 мкм | 1,0 мкм | 1G, 4G, 16G | Производство интегральных схем 1μм и TFT-LCD |
| ИБП | С8 | ≤1 ppb | ≤0,2 мкм | 0,35 ~ 0,8 мкм | 256 МИН. | Интегральные полупроводниковые интегральные схемы Micron |
| ИБПС | Г5 | Уровень ppt | ≤0,2 мкм | 0,09 ~ 0,2 мкм | Усовершенствованный процесс | Высокотехнологичное производство полупроводников |
| ИБПС | Г5 | Уровень ppt | ≤0,2 мкм | <0,09 мкм | Усовершенствованный процесс | Высокотехнологичное производство полупроводников |
Описание уровня
- Марка EL: Содержание металлических примесей составляет менее 100 ppb, контролирует размер частиц 1 микрон, достигая стандарта SEMI C1 / C2, подходит для малых и средних интегральных схем и процессов обработки электронных компонентов.
- Марка UP: подходит для интегральных схем размером 1 микрон и производственного процесса TFT-LCD, содержание примесей металлов менее 10 ppb, фильтрация фильтром пор 0,2 микрона, контролируемые частицы 0,5 микрона, заполнение в среде 100-уровневой очистки, в соответствии со стандартом SEMI C7.
- Марка ИБП: подходит для процесса обработки интегральных схем размером 0,35-0,8 микрона, содержание примесей металлов менее 1 ppb, фильтрация фильтром с размером пор 0,05 микрона, контролируемые частицы 0,2 микрона, заполнение в среде очистки уровня 100, в соответствии со стандартом SEMI C8.
- Марка UPSS: полупроводниковый класс, подходит для производства 0,09 ~ 0,2 мкм и <0,09 мкм ИС техпроцесса, самый продвинутый уровень, только несколько отечественных предприятий, таких как полифторид, могут производить и применять в больших масштабах.
- Марка UPSSS: Это самая высокая степень чистоты в настоящее время, с содержанием металлических примесей на уровне ppt, подходит для самого передового процесса производства полупроводников.
Способ производства
1. Сернокислотный метод: смешайте высушенный порошок флюорита и серную кислоту в соотношении 1: (1,2 ~ 1,3
) и отправьте его во вращающийся реактор для реакции, при этом температура газовой фазы в печи контролируется на уровне 280 °C±10 °C. Газ после реакции поступает в колонну перегонки сырой нефти, удаляя большую часть серной кислоты, влаги и порошка флюорита, а температура башни контролируется на уровне 100 ~ 110 ° C, а температура в верхней части башни составляет 35 ~ 40 ° C. Неочищенный газообразный фторид водорода конденсируется в жидкое состояние дегазационной башней, температура башни контролируется на уровне 20 ~ 23 °C, верхняя температура башни составляет -8 °C±1 °C, а затем он поступает в перегонную башню для дистилляции, температура башни контролируется на уровне 30 ~ 40 °C, а температура верхней части башни составляет 19,6 °C±0,5 °C. Фтористый рафинированный водород поглощается водой с получением продуктов фтористоводородной кислоты. 2
. Промышленная фтористоводородная кислота очищается путем дистилляции, конденсируется и отделяется для удаления примесей, а также фильтруется микропористой мембраной для удаления частиц пыли с получением бесцветной и прозрачной фтористоводородной кислоты электронного класса.
3. Используйте в качестве сырья баллон с промышленным фторидом водорода, соедините бутылку для мытья с полиэтиленовой трубкой, откройте клапан баллона и дайте газообразному фтористому водороду медленно пройти в абсорбер, оснащенный квалифицированной проводящей водой, и проанализируйте чистую фтористоводородную кислоту.
4. Используя в качестве сырья техническую фтористоводородную кислоту, сначала окислить органическое вещество и сернистую кислоту в сырье марганцовкой, а затем добавить карбонат калия (или фторид калия и карбонат бария) в зависимости от содержания примесей в сырье для удаления таких примесей, как серная кислота, фторсульфоновая кислота, фторкремниевая кислота и соляная кислота (образующиеся нелетучие вещества остаются на дне). Хорошо перемешайте, дайте постоять, а затем перемешайте, после того как реакция завершится, нагрейте и перегоните, а дистиллят соберите в чистую емкость из поливинилхлорида (поливинилхлорида), в которой находится реагент фтористоводородной кислоты.
5. Существует два сырьевых пути для производства плавиковой кислоты: флюоритовая и фосфатная руда. Сернокислотный метод с использованием флюорита в качестве сырья широко используется в промышленности. Фтористоводородную кислоту получали путем смешивания высушенного порошка флюорита и серной кислоты в соотношении 1∶(1,2~1,3
), а также путем высокотемпературного разложения, грубой дистилляции, дистилляции и водопоглощения.
качество
- Плотность: ~1,45 г/см³ (при 20°C)
- Температура кипения: разложение перед кипячением (~150°C при 1 атмосфере)
- Температура плавления: -0,43°C
- рН: слабокислый (рН 4,5–5,5 для разбавленного раствора)
- Растворимость: смешивается с различными пропорциями воды, слабо растворяется в спиртах и эфирах
- Разложение: Медленно разлагается на воду и кислород под воздействием тепла, света и примесей
Основные области применения:
- Полупроводниковая промышленность:
- Для процессов очистки пластин (RCA cleaning)
- Он необходим для удаления органических и металлических загрязнений из микроэлектроники
- Фармацевтика и биотехнология:
- Стерилизация оборудования и помещений
- Он используется в синтезе фармацевтических промежуточных продуктов
- Производство прецизионной электроники:
- Процесс травления печатных плат (ПП).
- Окислители в высокоточных химических реакциях
- Химический синтез:
- Основные реагенты в реакциях окисления
- Производство химических промежуточных продуктов высокой чистоты
- Применение в окружающей среде:
- Очистка сточных вод от загрязнений
- Усовершенствованный процесс окисления (AOP) для очистки воздуха и воды
Для удаления слоя стеклянной облицовки на поверхности микронитей можно использовать как фтористоводородную кислоту, так и гидроксид расплавленного натрия, причем время удаления фтористоводородной кислотой слоя стеклянной облицовки толщиной 10 мкм составляет около 150 с, а для плавления гидроксида натрия при комнатной температуре требуется около 10 с. Состав и структура стекла являются важными факторами, влияющими на коррозионную стойкость микронитей чистой меди со стеклянным покрытием. Оценены коррозионные свойства микроволокна в плавиковой кислоте и расплавленном гидроксиде натрия, проанализирована коррозионная стойкость микроволокна чистой меди со стеклянным покрытием в сильных кислотах и щелочах, а также обсужден механизм его коррозии.
Безопасность и обращение
- Опасности: Сильные окислители, которые могут вызвать серьезные ожоги и повреждение глаз. Он может бурно реагировать с органическими материалами, металлами и восстановителями.
- Хранение:
- Хранить в прохладном, сухом, хорошо проветриваемом месте
- Хранить в нереактивном контейнере (обычно из полиэтилена высокой плотности или тефлона)
- Избегайте воздействия солнечных лучей и источников тепла
- Защитное снаряжение: Используйте очки, перчатки и лабораторные халаты. В промышленных условиях обеспечьте надлежащую вентиляцию или используйте вытяжные шкафы.
