Asam Fluorida Ultra Murni7664-39-3
7722-84-1
Rumus kimia: H₂O₂
Nomor CAS: 7722-84-1
Kemurnian: Biasanya ≥ 99,999% (tergantung aplikasi)
| PARAMETER | U.M. | Minimum | Maksimum | |
| Uji (HF) | % | 48.8 | 49.2 | |
| Warna | APHA | 10 | ||
| Nitrat (NO3) | Ppb | 15 | ||
| Klorida (Cl) | Ppb | 15 | ||
| Fosfat (PO4) | Ppb | 15 | ||
| Sulfat & Sulfit (SO3 & SO4) | Ppb | 15 | ||
| KOTORAN MAKSIMUM | U.M. | Minimum | Maksimum | |
| Aluminium (Al) | Ppb | 0.05 | ||
| Antimon (Sb) | Ppb | 0.05 | ||
| Arsenik (Sebagai) | Ppb | 0.05 | ||
| Barium (Ba) | Ppb | 0.05 | ||
| Berilium (Be) | Ppb | 0.05 | ||
| Bismut (Bi) | Ppb | 0.05 | ||
| Boron (B) | Ppb | 0.05 | ||
| Kadmium (Cd) | Ppb | 0.05 | ||
| Kalsium (Ca) | Ppb | 0.05 | ||
| Kromium (Cr) | Ppb | 0.05 | ||
| Kobalt (Co) | Ppb | 0.05 | ||
| Tembaga (Cu) | Ppb | 0.05 | ||
| Galium (Ga) | Ppb | 0.05 | ||
| Germanium (Ge) | Ppb | 0.05 | ||
| Emas (Au) | Ppb | 0.05 | ||
| Besi (Fe) | Ppb | 0.05 | ||
| Indium (Dalam) | Ppb | 0.05 | ||
| Timbal (Pb) | Ppb | 0.05 | ||
| Litium (Li) | Ppb | 0.05 | ||
| Magnesium (mg) | Ppb | 0.05 | ||
| Mangan (Mn) | Ppb | 0.05 | ||
| Molibdenum (Mo) | Ppb | 0.05 | ||
| Nikel (Ni) | Ppb | 0.05 | ||
| Niobium (Nb) | Ppb | 0.05 | ||
| Kalium (K) | Ppb | 0.05 | ||
| Perak (Ag) | Ppb | 0.05 | ||
| Natrium (Na) | Ppb | 0.05 | ||
| Strontium (Sr) | Ppb | 0.05 | ||
| Tantalum (Ta) | Ppb | 0.05 | ||
| Talium (Tl) | Ppb | 0.05 | ||
| Timah (Sn) | Ppb | 0.05 | ||
| Titanium (Ti) | Ppb | 0.05 | ||
| Vanadium (V) | Ppb | 0.05 | ||
| Seng (Zn) | Ppb | 0.05 | ||
| Zirkonium (Zr) | Ppb | 0.05 | ||
| JUMLAH PARTIKEL | U.M. | Minimum | Maksimum | |
| ≧0,1 mikron | pcs/ml | 300 | ||
| ≧0,2 mikron | pcs/ml | 150 | ||
| ≧0,5 mikron | pcs/ml | 25 | ||
CSifat Fisik dan Kimia
- Kepadatan: ~1,45 g/cm³ (pada 20°C)
- Titik didih: Terurai sebelum mendidih (~150 °C pada 1 atm)
- Titik lebur: -0,43 °C
- Ph: Sedikit asam (pH 4,5–5,5 untuk larutan encer)
- Kelarutan: Larut dengan air dalam semua proporsi, sedikit larut dalam alkohol dan eter
- Dekomposisi: Perlahan-lahan terurai menjadi air dan oksigen, dipercepat oleh panas, cahaya, dan kotoran
Aplikasi Utama
- Industri Semikonduktor:
- Digunakan dalam proses pembersihan wafer (pembersihan RCA)
- Penting untuk menghilangkan kontaminan organik dan logam dari mikroelektronika
- Farmasi dan Bioteknologi:
- Sterilisasi peralatan dan fasilitas
- Digunakan dalam sintesis zat antara farmasi
- Manufaktur Elektronik Presisi:
- Proses etsa untuk papan sirkuit tercetak (PCB)
- Zat pengoksidasi dalam reaksi kimia presisi tinggi
- Sintesis Kimia:
- Reagen kunci dalam reaksi oksidasi
- Menghasilkan zat antara kimia dengan kemurnian tinggi
- Aplikasi Lingkungan:
- Pengolahan air limbah untuk menghilangkan polutan
- Proses oksidasi lanjutan (AOP) untuk pemurnian udara dan air
Keselamatan dan Penanganan
- Bahaya: Pengoksidasi kuat, dapat menyebabkan luka bakar parah dan kerusakan mata. Dapat bereaksi keras dengan bahan organik, logam, dan zat pereduksi.
- Penyimpanan:
- Simpan di tempat yang sejuk, kering, dan berventilasi baik
- Simpan dalam wadah non-reaktif (biasanya terbuat dari HDPE atau Teflon)
- Hindari paparan sinar matahari dan sumber panas
- Peralatan Pelindung: Gunakan kacamata, sarung tangan, dan jas lab. Dalam pengaturan industri, pastikan ventilasi yang baik atau gunakan lemari asap.
Pasar dan Pasokan
Peraturan: Sesuai dengan standar internasional seperti SEMI C30 untuk hidrogen peroksida kelas semikonduktor
Produsen Utama: Evonik, Solvay, Arkema, Mitsubishi Gas Chemical, dll.
Kemasan: Biasanya dipasok dalam wadah dengan kemurnian tinggi — drum, tas jinjing IBC, atau sistem pengiriman massal untuk penggunaan industri
